DUV基本上只能做到7nm，而EUV能满足7nm以下的晶圆制造；2、DUV主要利用光的折射原理，而EUV利用的光的反射原理，内部必须为真空操作。
DUV已经能满足绝大多数需求：覆盖14nm及以上制程需求。DUV和EUV最大的区别在光源方案。EUV的光源波长为13.5nm，但最先进DUV的光源波只有193nm，较长的波长使DUV无法实现更高的分辨率，因此DUV只能用于制造14nm及以上制程的芯片。
鉴于DUV涵盖了大部分数字芯片和几乎所有的模拟芯片，所以完全掌握DUV技术就能在各类芯片领域有所建树。先进制程向7nm及以下先进制程进化，必须EUV。
DUV一台大约5.8亿人民币，EUV光刻机一台大约10亿人民币，阿斯美对国内企业封禁的是EUV，DUV已经放开。国产替代，北方华创平台级，除了不做光刻机，刻蚀设备，沉积设备，什么都做，上海微电子，全新一代可用于28nm工艺生产的DUV光刻机即将下线，中微公司的刻蚀设备，沉积设备。那么你觉得国产euv啥时候会来呢？
国产DUV都没有呢
初略计算大约需要10年[吃瓜]